标准详情
300 mm低氧含量直拉硅单晶抛光片
300 mm low oxygen content single crystaline Czochralski silicon polished wafers
T/NXCL 29-2024现行团体标准
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PDF · 8 页 · 478.36KB
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基础信息
标准号
T/NXCL 29-2024
标准状态
现行
发布日期
2024-03-05
实施日期
2024-03-05
主管部门
宁夏材料研究学会
标准简介
本文件规定了 300 mm 低氧含量直拉硅单晶抛光片的术语和定义、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存、质量证明书、订货单（或合同）内容和质量承诺等方面的内容。 本文件适用于直径 300 mm 低氧含量直拉硅单晶磨削片经单面或双面抛光制备的硅单晶抛光片，产品主要用于满足绝缘栅双极晶体管（IGBT）等功率器件技术需求的衬底片。
内容预览
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