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表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染
Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
GB/T 40110-2021现行国家标准
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基础信息
标准号
GB/T 40110-2021
标准状态
现行
发布日期
2021-05-21
实施日期
2021-12-01
中国标准分类号
G04
国际标准分类号
71.040.40
主管部门
中国科学院
发布部门
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
技术归口
中国科学院
标准简介
本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。 本文件适用于以下情形:原子序数从16(S)到92(U)的元素;原子表面密度介于1X1010atoms/cm2~1X1014atoms/cm2之间的污染元素;采用VPD(气相分解)样品制备方法得到的原子表面密度介于5X108atoms/cm2~5X1012atoms/cm2之间的污染元素(见3.4)。
内容预览
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