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硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
GB/T 40279-2021现行国家标准
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基础信息
标准号
GB/T 40279-2021
标准状态
现行
发布日期
2021-08-20
实施日期
2022-03-01
中国标准分类号
H21
国际标准分类号
77.040
主管部门
国家标准委
发布部门
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
技术归口
国家标准委
标准简介
本文件规定了采用光学反射法测试硅片表面二氧化硅薄膜、多晶硅薄膜厚度的方法。 本文件适用于测试硅片表面生长的二氧化硅薄膜和多晶硅薄膜的厚度，也适用于所有光滑的、透明或半透明的、低吸收系数的薄膜厚度的测试，如非晶硅、氮化硅、类金刚石镀膜、光刻胶等表面薄膜。测试范围为15nm~105nm。
内容预览
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