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掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则
Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems
GB/T 17866-1999现行国家标准
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基础信息
标准号
GB/T 17866-1999
标准状态
现行
发布日期
1999-09-13
实施日期
2000-06-01
中国标准分类号
L56
国际标准分类号
31.200
主管部门
国家标准委
发布部门
国家质量技术监督局
技术归口
国家标准委
标准简介
本标准的目的是制定一套可用于评估掩模缺陷检查系统灵敏度的测试掩模。这套测试掩模包括：含特制图形缺陷的测试芯片，以及不含特制图形缺陷的参考测试芯片。由于测试芯片是由各种单元集合而所，所以在本标准中，测试芯片是用单元图形、单元图形中的特制缺陷、以及单元的布局来定义的。此外，测试掩模是通过规定测试芯片的排列来定义的。本标准还讲述这套掩模的用法。过去的设备在灵敏度测试中，许多设备生产厂家和用户使用不同的掩模，而且每个厂家和用户各自决定不同的测试方法。在某些情况下，迄今还没有统一的测量方法或灵敏度分析方法。所以，在
内容预览
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