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硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry
GB/T 24575-2009现行国家标准
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基础信息
标准号
GB/T 24575-2009
标准状态
现行
发布日期
2009-10-30
实施日期
2010-06-01
中国标准分类号
H80
国际标准分类号
29.045
主管部门
国家标准委
发布部门
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
技术归口
国家标准委
标准简介
本标准规定了硅和外延片表面Na、Al、K 和Fe的二次离子质谱检测方法。本标准适用于用二次离子质谱法(SIMS)检测镜面抛光单晶硅片和外延片表面的Na、Al、K 和Fe每种金属总量。本标准测试的是每种金属的总量,因此该方法与各金属的化学和电学特性无关。 本标准适用于所有掺杂种类和掺杂浓度的硅片。 本标准特别适用于位于晶片表面约5nm 深度内的表面金属沾污的测试。 本标准适用于面密度范围在(109~1014)atoms/cm2 的Na、Al、K 和Fe的测试。本方法的检测限取决于空白值或计数率极限,因仪器的
内容预览
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