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用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
GB/T 29844-2013现行国家标准
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PDF · 11 页 · 396.48KB
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基础信息
标准号
GB/T 29844-2013
标准状态
现行
发布日期
2013-11-12
实施日期
2014-04-15
中国标准分类号
L90
国际标准分类号
31.030
主管部门
国家标准委
发布部门
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
技术归口
国家标准委
标准简介
本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸,以及推荐的布局和设计规则,这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。 本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量,适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。
内容预览
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