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硅抛光片表面颗粒测试方法
Test method for particles on polished silicon wafer surfaces
GB/T 19921-2018现行国家标准
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基础信息
标准号
GB/T 19921-2018
标准状态
现行
发布日期
2018-12-28
实施日期
2019-07-01
中国标准分类号
H21
国际标准分类号
77.040
主管部门
国家标准委
发布部门
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
技术归口
国家标准委
标准简介
本标准规定了应用扫描表面检查系统对抛光片、外延片等镜面晶片表面的局部光散射体进行测试，对局部光散射体与延伸光散射体、散射光与反射光进行区分、识别和测试的方法。针对130nm~11nm线宽工艺用硅片，本标准提供了扫描表面检查系统的设置。 本标准适用于使用扫描表面检查系统对硅抛光片和外延片的表面局部光散射体进行检测、计数及分类，也适用于对硅抛光片和外延片表面的划伤、晶体原生凹坑进行检测、计数及分类，对硅抛光片和外延片表面的桔皮、波纹、雾以及外延片的棱锥、乳突等缺陷进行观测和识别。本标准同样适用于锗抛光片、化合
内容预览
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