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电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

YS/T 935-2013现行行业标准

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YS/T 935-2013 · 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

基础信息

标准号

YS/T 935-2013

标准状态

现行

发布日期

2013-10-17

实施日期

2014-03-01

中国标准分类号

H68

国际标准分类号

77.150.99

主管部门

工业和信息化部

发布部门

工业和信息化部

技术归口

全国有色金属标准化技术委员会

标准简介

本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。 本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材(以下简称靶材)。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。

内容预览

YS/T 935-2013 标准预览YS/T 935-2013 标准预览YS/T 935-2013 标准预览YS/T 935-2013 标准预览
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